Тайвань получил литограф, который «рисует» микросхемы электронными лучами

Нет нужды в фотошаблонах

Американская компания Multibeam получила первый заказ на Тайване. Национальный университет Цинхуа (NTHU) внедрит платформу многолучевой электронно-лучевой литографии MBX, которая будет использоваться для исследований и разработки технологий нового поколения в области микроэлектроники. Поставка оборудования запланирована на 2027 год.

Система появится в Колледже полупроводниковых исследований NTHU. Ее планируют использовать не только в научных проектах, но и в совместных разработках с крупнейшими тайваньскими производителями чипов.

Главное преимущество MBX — отказ от традиционных фотошаблонов. Вместо них установка формирует рисунок микросхемы непосредственно на кремниевой пластине сразу несколькими электронными лучами. Это позволяет быстро выпускать новые прототипы после завершения проектирования, сокращая сроки разработки и снижая ее стоимость.

По словам разработчиков, технология сочетает высокую точность и производительность. Она подходит для создания современных корпусов микросхем, фотонных компонентов, квантовых устройств и специализированных ускорителей искусственного интеллекта.

Для самой Multibeam этот контракт имеет особое значение. Тайвань считается мировым центром производства передовых полупроводников, поэтому первая установка MBX в регионе может стать для компании важным шагом к сотрудничеству с ведущими производителями микросхем и открыть ей путь на один из самых перспективных рынков отрасли.