Intel первой запустила массовое производство процессоров с использованием High-NA EUV-литографии

ASML стоимостью около $400 млн уже применяются при выпуске процессоров Panther Lake

Intel впервые начала использовать литографию, использующую экстремальный ультрафиолет High-NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) в массовом производстве коммерческих процессоров. Новая технология уже применяется при выпуске отдельных слоёв чипов Panther Lake — процессоров Intel Core Ultra Series 3. До этого High-NA EUV использовалась только для исследований и тестовых пластин.

В основе технологии лежат новые литографические установки ASML EXE с числовой апертурой 0,55 вместо 0,33 у современных систем NXE. Более высокая числовая апертура позволяет формировать более мелкие элементы микросхем: по данным ASML, разрешение увеличилось с 13 до 8 нм. При этом речь идёт о возможностях оптической системы, а не о маркетинговом обозначении техпроцесса.

Полностью на High-NA процессоры пока не производятся. Intel квалифицировала два варианта изготовления отдельных слоёв Panther Lake — на традиционных NXE и новых EXE. Такой подход позволяет при необходимости переключать производство между разными поколениями оборудования и не зависеть только от новых литографических систем.

По данным Reuters, одна установка High-NA EUV стоит около $400 млн — почти в 2 раза дороже обычной EUV-машины. Кроме покупки оборудования производителям приходится разрабатывать новые фоторезисты, фотошаблоны, методы измерений и производственные процессы, поэтому переход требует не только крупных инвестиций, но и серьёзной адаптации всей технологии производства.

Главное преимущество High-NA заключается в том, что часть сложных структур можно формировать за меньшее число этапов экспонирования. Это сокращает время изготовления пластин, расход материалов, вероятность ошибок совмещения слоёв и появления дефектов, а также потенциально снижает себестоимость производства. Насколько эти преимущества смогут компенсировать стоимость нового оборудования, будет зависеть от конструкции конкретных чипов и объёмов их выпуска.

Для Intel внедрение High-NA имеет и стратегическое значение. Компания рассчитывает использовать опыт массового производства Panther Lake для развития контрактного подразделения Intel Foundry, которое конкурирует с TSMC и Samsung. Первые серийные процессоры с использованием новой литографии должны показать, насколько технология готова к широкому промышленному применению.