Без Zeiss не было бы современных чипов: важнейший партнер ASML расширяет производство компонентов для EUV-литографии

Новая производственная площадка в Германии поможет ускорить выпуск литографических машин и устранить одно из главных узких мест отрасли

Немецкая компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) объявила об открытии новой производственной базы в Германии, которая позволит увеличить выпуск оптических компонентов для EUV-литографии.

Это важное событие для всей полупроводниковой отрасли, поскольку Zeiss SMT остается единственным в мире поставщиком высокоточной оптики для EUV-сканеров ASML. Фактически без продукции Zeiss невозможно производство современных литографических машин, используемых для выпуска передовых микросхем.

Именно производственные мощности Zeiss SMT считаются одним из главных факторов, ограничивающих темпы выпуска оборудования ASML. В годовом отчете компания предупреждала, что длительные перебои у поставщика способны серьезно повлиять на ее деятельность. Zeiss производит линзы, зеркала и системы освещения для EUV-сканеров, включая комплексы High-NA EUV. Одна такая проекционная система состоит более чем из 40 тыс. деталей, весит около 12 тонн, а изготовление отдельных зеркал занимает несколько месяцев.

Для расширения производства ASML выделила партнеру кредит на 1,91 млрд евро и аванс в размере 1,19 млрд евро. Совместная цель компаний — сократить время сборки каждой EUV-машины примерно с 22 до 15–16 недель и увеличить объемы поставок.

Закупки ASML у Zeiss SMT продолжают быстро расти: если в 2023 году они составили 3,33 млрд евро, то в 2024 году увеличились до 3,95 млрд евро, а в 2025 году достигли 4,41 млрд евро.