В России разработали многолучевой литограф, который в 3000 раз быстрее обычного

Первый опытный образец может появиться к 2030 году

Российские ученые завершили этап научно-исследовательских работ по созданию отечественного многолучевого электронного литографа — установки, которая в перспективе сможет использоваться для производства микросхем с технологическими нормами вплоть до нескольких нанометров. Об этом сообщают «Известия».

На сегодняшний день специалисты завершили исследования и подготовили проект будущей установки. Следующим этапом станут опытно-конструкторские работы, а первый опытный образец, по оценкам разработчиков, может появиться примерно через три года.

Главное отличие новой системы от традиционных электронных литографов заключается в принципе работы. Если существующие установки используют один электронный луч, то российская разработка основана на технологии мультикатода, формирующей сразу множество независимых электронных лучей. Благодаря этому экспонирование кремниевых пластин должно происходить значительно быстрее.

По расчетам разработчиков, обычному однолучевому электронному литографу требуется от полутора до двух недель на обработку одной пластины. Новый многолучевой комплекс сможет выполнять ту же задачу всего за 5–7 минут, что потенциально увеличит производительность примерно в 3000 раз.

Главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов рассказал, что инженерам удалось создать массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра. По его словам, это соответствует одному из лучших мировых результатов.

Еще одним преимуществом новой технологии разработчики называют более простую конструкцию. Зарубежные многолучевые литографы обычно используют сложную систему расщепления одного электронного луча с большим количеством зеркал и оптических элементов. Российская установка формирует множество независимых источников электронов сразу на общей подложке, что, как ожидается, позволит снизить стоимость оборудования, уменьшить энергопотребление и упростить требования к инженерной инфраструктуре.

По словам создателей, новый литограф сможет применяться для производства микросхем с различными технологическими нормами — от 350 нм до нескольких нанометров. При этом они отмечают, что предельное разрешение современных электронных литографов во многом зависит не только от самой установки, но и от характеристик используемых фоторезистов.